詳細介紹
鎢礦石、鉬礦石化學元素成分檢測儀
在礦產資源開發與利用領域,準確測定鎢礦石、鉬礦石中的元素成分至關重要。基于X射線熒光光譜法(XRF)和電感耦合等離子體光譜法(ICP)的鎢礦石、鉬礦石元素成分檢測儀,憑借其優勢成為行業得力工具。
XRF檢測儀基于X射線與物質相互作用產生熒光X射線的原理工作。當高能X射線照射到鎢礦石、鉬礦石樣品表面時,樣品中的原子內層電子被激發,外層電子躍遷*空位,釋放出具有特定能量的熒光X射線。不同元素發出的熒光X射線能量不同,通過檢測這些射線的能量和強度,就能確定樣品中元素的種類和含量。
該檢測儀具有諸多優點。首先,它是一種無損檢測技術,無需對樣品進行復雜的預處理,保留了樣品的原始狀態,減少了因樣品處理帶來的誤差。其次,檢測速度快,能在短時間內完成對多種元素的同時分析,大大提高了檢測效率,適合大規模礦石樣品的快速篩查。再者,操作相對簡便,對操作人員的技術要求不高,經過簡單培訓即可上手。此外,儀器穩定性好,長期使用仍能保持較高的檢測精度。不過,XRF檢測儀對于輕元素的檢測靈敏度相對較低,且在分析復雜基體樣品時可能存在基體效應干擾,需要采用合適的校正方法。
儀器技術性能
真正實現在現場進行無損,快速,準確的檢測,直接顯示元素的ppm含量與百分比含量。
只需將礦石分析儀直接接觸待測礦石表面,無須等待和花費時間即可現場確定礦石等級。
被檢測的樣品的對象可以是礦石、巖石、礦渣、碎片;土壤、泥土、泥漿;粉塵、灰塵、過濾物、薄膜層;廢水、廢油等等的固體、液體物質。
快的分析速度, 僅需2秒鐘就可識別元素。
用戶化windows CE 6.0系統驅動的微電腦顯示系統使所有功能皆可現場完成,用戶化windows CE僅保留有windows與Delta系統有關的性能,使程序更具靈活性。
無需借助電腦,可在現場隨意,查看,放大相關元素的光譜圖。
防塵,防霧,防水:一體機設計,軟膠與塑膠部件凹凸槽構造設計,使儀器具有很好的三防性能,可承受惡劣的工作環境,大霧,下雨,塵土飛揚工裝場地也能正常工作。
超大功率。40KV,100mA高達4W的大功率X射線管技術使儀器具有更低檢測下限。
腰帶、槍套、肩帶能將儀器牢牢地固定在你的腰部,可在野外活動自如。
更高的檢測精度,多次測試的平均值統計功能可有效地提高儀器的檢測精度。
超大的圖標顯示,菜單式驅動,微電腦WINDOWS系統使儀器操作更加簡便。
電磁干擾被屏蔽,即使在靠近手機或雙向無線通信裝置處也能正常工作。
儀器元素分析范圍
可分析從從鎂(Mg)到钚(Pu)之間的所有83種元素。
儀器分析模式與元素種類 | ||
分析模式 | 分析元素 | |
元素分析范圍 | 分析外圍:從12號元素Mg到94號元素PU范圍內的34種基本元素,在以上范圍內,可以根據客戶需要更換其他元素。 | |
Mining模式 (%含量) | Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, W, Pb, Bi等19元素。 | |
Two beam mining模式 (%含量) | Mg, Al, Si, P, S, Cl、K、Ca、Ti、Mn等10元素 | |
Soil模式 (ppm含量) | Beam1 | Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Se, Rb, Sr, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, Ba, Pt, Au, Hg, Pb 等23元素 |
Beam2 | Ti, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, As, Se, Rb, Sr, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, W, Hg, Pb, Bi, Th, U等24元素 | |
Beam3 | P、S、Cl、K、Ca、Ti、Cr 、Mn、Fe、I、Ba 等11元素 |
ICP光譜儀利用高頻電感耦合等離子體作為激發光源,將樣品溶液霧化后引入等離子體,樣品中的原子被激發至高能態,當原子從高能態躍遷回低能態時,會發射出特定波長的光譜線。通過檢測這些光譜線的波長和強度,就能確定樣品中元素的種類和含量。
ICP光譜儀的檢測精度好,能夠準確測定鎢礦石、鉬礦石中痕量元素的含量,對于研究礦石的成因、品質評估等具有重要意義。它的線性范圍寬,可同時分析高、低含量元素,滿足不同礦石樣品的檢測需求。而且,基體干擾小,對復雜基體樣品的適應性強。但ICP光譜儀需要對樣品進行溶解等預處理,操作過程相對復雜,且儀器成本較高,運行維護費用也相對昂貴。
無論是基于X射線熒光光譜法還是ICP光譜法的鎢礦石、鉬礦石元素成分檢測儀,都在礦石分析領域發揮著重要作用,用戶可根據實際需求選擇合適的儀器。
儀器技術參數:
1、輸入電源:電壓交流220V,電流20A。
2、采用CzernyTurner型光路,焦距為1000mm。
3、離子刻蝕全息光柵,刻劃面積(80×110)mm。
4、全自動一鍵點火,自動匹配,點火穩定、便捷。
5、采用同心圓霧化器搭配旋流霧室,1ppmMn強度>1000000cps。
6、分辨率(Mn257、610nm):≤0、005nm(4320刻線光柵);≤0、008nm(3600刻線光柵);≤0、015nm(2400刻線光柵)。
7、波長范圍:190-460nm(4320刻線光柵);190-500nm(3600刻線光柵);190-800nm(2400刻線光柵)
8、自主研發全固態射頻電源,輸出功率800-1600W,連續可調,電源效率大于65%,工作頻率27、12MHz,頻率穩定性<0、05%,功率輸出穩定性<0、05%。
詳細指標參數如下:
光柵刻線 | 光柵:2400刻線 | 光柵:3600刻線 | 光柵:4320刻線 | |
波長 | 范圍 | 190nm-800nm | 190nm-500nm | 190nm-420nm |
示值誤差 | ±0.03nm | ±0.03nm | ±0.03nm | |
重復性 | ≦0.005nm | ≦0.005nm | ≦0.005nm | |
最小光譜帶寬 | Mn 257.610nm 半高寬≦0.030nm | Mn 257.610nm 半高寬≦0.015nm | Mn 257.610nm 半高寬≦0.007nm | |
檢出限/(ug/L) | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | |
重復性 | 3號溶液 RSD≤1.5% | 3號溶液 RSD≤1.5(%) | 3號溶液 RSD≤1.5(%)) | |
穩定性 | 3號溶液 RSD≤2% | 3號溶液 RSD≤2% | 3號溶液 RSD≤2% |
說明:下表為檢定用溶液標準
表A.1 檢定波長用標準溶液
元素 | Se | Zn | Mn | Cu | Ba | Na | Li | K |
波長/nm | 196.026 | 213.856 | 257.610 | 324.754 | 455.403 | 588.995 | 670.784 | 766.491 |
濃度/(mg/L) | 10.0 | 10.0 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 20.0 | 10.0 | 20.0 |
注:基體為0.5mol/L硝酸 1.光柵刻線為2400L/mm時波長檢定以上元素 2.光柵刻線為3600L/mm時波長檢定元素不含Li、Na、K。 |
表A.2 工作曲線系列標準溶液 單位:mg/L
元素 | Zn | Ni | Mn | Cr | Cu | Ba |
1號 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
2號 | 1.00 | 1.00 | 0.50 | 1.00 | 0.50 | 0.50 |
3號 | 2.00 | 2.00 | 1.00 | 2.00 | 1.00 | 1.00 |
4號 | 5.00 | 5.00 | 2.50 | 5.00 | 2.50 | 2.50 |
注:基體為0.5mol/L硝酸 |
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